Titanium-sprutmål med høy renhet

Titanium-sprutmål med høy renhet

1. Kjerneinnovasjon: Redefinering av renhet og ytelse​

• Produktnavn: Ultra-High-Purity Titanium Sputtering Targets (Gr1-Gr12 Grades)
• Benchmark for renhet:
• Titaninnhold: Større enn eller lik 99,95 % (ASTM B348)
• Urenhetskontroll: <0.02% (O, N, C ≤0.005%; Fe ≤0.01%)
• Tetthet: 4,51 g/cm³ (±0,02)
• Hvorfor dette betyr noe:
• Filmintegritet: Sub-ppm impurity levels eliminate voids and inclusions, ensuring uniform film thickness (±2%) and adhesion strength (peel test >50 MPa).
• Kornstruktur: 50–100 μm likeaksede korn (SEM-bekreftet) reduserer lysbuedannelse og forbedrer sputterhastighetsstabiliteten med 30 %.
• Teknisk kant:
• VakuuminduksjonssmeltingRåmateriale med 99,999 % renhet smeltet under 10-3 Pa vakuum.
• Varm isostatisk pressing (HIP): 1200 grader /200 MPa behandling for å lukke porene<5 μm.
• CNC presisjonsmaskinering: Toleranser ±0,05 mm for kritiske dimensjoner (f.eks. måltykkelse).

2. Applikasjons-spesifikke løsninger​

2.1 Halvlederproduksjon​

Wafer Coating: Gr1 (99,5 % Ti) mål for gate dielektriske lag (oksid/nitrid-grensesnitt).

Kasusstudie: Redusert partikkelforurensning med 80 % ved 300 mm wafer-sputtering.

2.2 Optiske belegg​

Anti-refleksfilmer: Gr5 (Ti-6Al-4V) mål for UV/IR-optikk (brytningsindekskontroll: n=2.2–2.6).

UV-C-linser: Oppnår 99,8 % overføring i 200–400 nm rekkevidde.

2.3 Energilagring​

Solid-batterier: Gr7 (Ti-0.2Pd) mål for fast-elektrolytt-grensesnitt (ionisk ledningsevne: 10⁻³ S/cm).

2.4 Avansert elektronikk​

Fleksible kretser: Gr12 (Ti-0.3Mo-0.8Ni) mål for strekkbare lederlinjer (tøyningstoleranse: 300%).

3. Kvalitetssikring og samsvar​

Sertifiseringer:

• ISO 9001: Full sporbarhet fra råvare til ferdig produkt.
• ASTM B381: Resistens mot hydrogensprøhet<200 kPa.
• RoHS/REACH: <100 ppm restricted substances.

Testing av protokoller:

Populære tags: høy renhet titan sputtering mål, Kina, produsenter, leverandører, fabrikk, tilpasset, lav pris, på lager, laget i Kina